半导体先进光刻理论与技术

定　　价：198 元

• 作者：(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著
• 出版时间：2023/8/1
• ISBN：9787122432766
• 出 版 社：化学工业出版社

• 中图法分类：TN305.7 
• 版次：1
• 开本：24cm

内容简介

本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。